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氧氣源臭氧發生器水廠深度氧化消毒處理設備和創智云HCCF

產品型號：

HCCF

品牌：

和創智云

≧1 臺
￥150000.00

所在地：

山東濰坊

更新日期：

2025-01-20

詳細信息

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品牌：和創智云	加工定制：是	型號：HCCF
臭氧產量：50-50000 g/h	功率：按規格 w	使用電源：220V/380V
工作溫度：15~25 ℃	外型尺寸：根據型號 mm	使用電源：220V/380V

氧氣源臭氧發生器水廠深度氧化消毒處理設備
自來水生產技術主要分為預處理、常規處理和深度處理。目前，大多數自來水廠采用的絮凝—沉淀—過濾—氯消毒常規水處理工藝，在當前我國污染嚴重的現實情況下有很多局限性，可以采用臭氧—活性炭深度處理工藝進行升級改造。

臭氧在飲用水處理中主要功能為氧化分解有機物，降低 COD，臭氧將大分子有機物降解為小分子有機物，將小分子有機物降解為水與二氧化碳，再輔以其它方法，使有機物的去除更為經濟有效。在水集中處理段采用臭氧降解有機物和消毒，可以提高殺菌消毒能力的同時又沒有二次污染，在供水線路上采用添加少量氯，減少氯使用量，降低副作用的同時保持了持續消毒能力。

氧氣源臭氧發生器水廠深度氧化消毒處理設備
臭氧-生物活性炭工藝是集活性炭物理吸附、臭氧化學氧化、生物降解及臭氧滅菌消毒等功效為一體的工藝。該工藝首先利用臭氧預氧化作用，在預臭氧接觸池內投加臭氧，主要作用是殺藻、改善絮凝效果和初步氧化分解水中的大分子有機物及其他還原性物質，降低生物活性炭濾池的有機負荷，同時臭氧氧化能使水中難以生物降解的有機物斷鏈、開環，轉化成簡單的脂肪烴，改變其生化特性，避免了預氯化產生消毒副產品。在后臭氧接觸池內投加臭氧，主要作用是氧化有機物（將大分子有機物變為小分子有機物，以利后續生物活性炭吸附降解）、殺死細菌、病原體等，并為后續活性炭提供充足的氧源�；钚蕴磕軌蜓杆俚匚剿械娜芙庑杂袡C物，同時也能富集微生物，靠臭氧產生的充足氧源，炭床中的微生物就能以有機物為養料大量生長繁殖，使活性炭吸附的小分子有機物充分生物降解。